特許
J-GLOBAL ID:200903019032000795

アクティブマトリクス基板およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-286488
公開番号(公開出願番号):特開平6-138481
出願日: 1992年10月23日
公開日(公表日): 1994年05月20日
要約:
【要約】【目的】 画素を駆動する表示用用TFTと表示部駆動用TFTとに要求されるスペックを両立できる、ドライバモノリシック型アクティブマトリクス基板を得る。【構成】 画素を駆動させる表示用TFTの能動層106が第1のp-Si膜104と第2のp-Si膜107とからなり、走査線および信号線を駆動させる表示部駆動用TFTの能動層は第2のp-Si膜107のみからなっている。表示用TFTにおいてはp-Si膜106の膜厚が薄いのでOFF電流を小さくすることができ、表示部駆動用TFTにおいてはp-Si膜107の膜厚が薄いのでON電流を大きくすることができ、それぞれの素子に要求されるスペックを両立させることができる。
請求項(抜粋):
基板上に、画素電極と、導通または非導通状態となる能動層を備えた表示用スイッチング素子とがマトリクス状に形成されてなる表示部を有し、該表示部以外の基板部分の上に該表示部を駆動する駆動回路部が形成され、該駆動回路部が導通または非導通状態となる能動層を備えた複数の表示部駆動用スイッチング素子を有するアクティブマトリクス基板において、該表示用スイッチング素子の能動層の厚みが、該表示部駆動用スイッチング素子の能動層の厚みと異なるアクティブマトリクス基板。

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