特許

J-GLOBAL ID：200903019041069927

プラズマチャンバ表面から副生成物をクリーニングするための方法及び装置

発明者： ヤン イー ,  ダイアナ シャオビン マ ,  ジェラルド ゼヤオ イン ,  ケシャヴ プラサド ,  マーク シーゲル ,  スティーヴ エス. マック ,  ポール マルティネス ,  ジェイムス エス. パパニュ ,  ダニー チェン ル
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-327062
公開番号（公開出願番号）：特開平9-186143
出願日： 1996年12月06日
公開日（公表日）： 1997年07月15日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、 プラズマチャンバ表面から副生成物をクリーニングするための方法及び装置を提供するものである。【解決手段】 本発明は、酸素又は原子状酸素含有種が存在しない塩素及びフッ素含有ガスのある種の混合物を使用して単一のプラズマ活性ドライクリーニングステップを提供することにより必要なチャンバの湿式清浄化の間隔を拡張するものである。この単一のクリーニングステップは、(a)等しいか、より多い量のフッ素含有ガスと、等しいか、より少ない量の塩素含有ガスからなるハロゲン含有プラズマ反応ガス混合物を、原子状酸素含有種を実質的に含まない真空プラズマプロセスチャンバ内へ導入することと、(b)前記反応ガスのプラズマを発生させることと、及び(c)前記プラズマ及び/又は発生した種を、プラズマガスが選択的に有機残渣及び金属残渣と反応し、チャンバの出口ポートを通じてチャンバから除かれるガス種に揮発化させるチャンバの内部表面に付着している蓄積した残渣に接触させることとを有する。

請求項（抜粋）：

プラズマ処理チャンバの内部表面をクリーニングする方法であって、a)等しいか、又はより体積的に多い少なくとも1つのフッ素含有ガスと、等しいか、又はとり体積的に少ない少なくとも1つの塩素含有ガスとのエッチャントガス混合物を含む無機ハロゲン含有プラズマ反応ガスをプラズマ処理チャンバへ導入すること、b)反応ガス混合物を、原子状酸素含有種が実施的にない環境下で励起してプラズマを形成すること、およびc)チャンバの内部表面をプラズマの揮発性反応種と接触させて、少なくとも一部の有機及び金属性プロセス残渣副生成物が揮発化されチャンバのガス流出口部から除かれることを備える方法。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304 341

FI (5件)：

H01L 21/302 N ,  C23F 4/00 A ,  C23F 4/00 E ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304 341 Z