フェノール樹脂高流動成形体及びその成形法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-020675
公開番号（公開出願番号）：特開平6-206234
出願日： 1993年01月12日
公開日（公表日）： 1994年07月26日
要約：

【要約】【目的】安価で高精密の光学部品用フェノール樹脂高流動成形体、磁気ディスクの超高精密炭素基盤等の二次加工品に好適に仕上げることができるフェノール樹脂高流動成形体及びその成形法を提供する。【構成】透明で大気孔及び含有金属の殆どないフェノール樹脂高流動成形体、及びフェノール樹脂熱流動性粒状成形材料の表層を低表面張力物質によって被覆したフェノール樹脂成形材料を用いて乾燥状態にてトランスファー成形、射出成形、あるいは押出成形等の高流動成形を行うフェノール樹脂高流動成形体の成形法。

請求項（抜粋）：

波長800nm の可視光線の光路1mm当りの光透過率が80%以上、1cm3 当り孔径100 μm 以上の気孔が1個未満、金属含有量が200 重量ppm 以下であることを特徴とするフェノール樹脂高流動成形体。

IPC (7件)：

B29C 45/00 , B29C 47/00 , C01B 31/00 , C08J 7/04 , G02B 1/04 , G11B 5/82 , C08G 8/00 NBC

引用特許：

審査官引用 (2件)

特公昭46-032503
特開昭53-137294

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