特許
J-GLOBAL ID：200903019052462884
パターン形成用導電性組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
青木 朗 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-157953
公開番号（公開出願番号）：特開平6-003813
出願日： 1992年06月17日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：
【要約】【目的】 パターン形成におけるチャージアップによる位置ずれおよび寸法誤差等の防止を目的とする。【構成】 前記目的達成のため、本発明はパターン形成用導電性組成物および該組成物を用いたパターン形成方法を提供するものであり、この組成物は、(a)スルホン基の含有率が芳香環に対して20〜80%のスルホン化ポリアニリン類0.1〜20重量部、(b)溶剤100重量部、および(c)アミン類及び/又は四級アンモニウム塩類0.01〜30重量部を含んでなり、更に所望により、(d)成分として下記の(A)及び/又は(B):(A)上記(b)溶剤に可溶な高分子化合物(B)界面活性剤0〜200重量部を含んでなる。
請求項（抜粋）：
(a)スルホン基の含有率が芳香環に対して20〜80%のスルホン化ポリアニリン類0.1〜20重量部、(b)溶剤100重量部、および(c)アミン類及び/又は四級アンモニウム塩類0.01〜30重量部を含んでなるパターン形成用導電性組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 504
, G03F 7/004 521
, G03F 7/26 511
, H01L 21/265
