特許

J-GLOBAL ID：200903019084570654

排煙脱硫副生石膏スラリーの脱水方法および脱水装置

発明者： 井口 恵一朗 ,  水戸部 幸夫 ,  小川 洋 ,  田口 勝巳
出願人/特許権者： 大機ゴム工業株式会社
代理人 (1件)： 須賀 総夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-121289
公開番号（公開出願番号）：特開平7-330397
出願日： 1994年06月02日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：

【要約】【目的】 石灰-石膏法による湿式排煙脱硫の副生石膏スラリー(固形分10〜30%)を脱水して、残存水分量と塩素含有率の低いケーキを得る。【構成】 間欠連続運転式の水平ベルトフィルターの真空吸引セクションを、(I)実質上真空度ゼロの重力濾過ゾーン、(II)真空度200〜500mmHg(G)で操業する真空濾過ゾーン、(III)真空度0〜300mmHg(G)で洗浄水を適用する洗浄ゾーン、および、(IV)真空度400〜600mmHg(G)で操業する真空脱水ゾーンに分けて使用する。 石膏スラリーはあらかじめ液体サイクロンで処理して、微粉末を除くとともに濃縮(固形分40〜70%に)しておくとよい。

請求項（抜粋）：

排煙脱硫設備で副生した石膏のスラリーを脱水する方法であって、間欠連続式水平ベルトフィルターを使用し、その濾過操作部分を、(I)実質上真空吸引を行なわない重力濾過ゾーン、(II)真空度200〜500mmHg(G)で操作する真空濾過ゾーン、(III)真空度0〜300mmHg(G)で操作する洗浄ゾーン、および、(IV)真空度400〜600mmHg(G)で操作する真空脱水ゾーンに分け、上記重力濾過ゾーンにおいて濾布上に石膏スラリーを供給してケーキを形成し、真空濾過ゾーンにおいて付着水の大部分を除去したのち、洗浄ゾーンにおいて上方から洗浄水を散布してケーキを洗浄し、続いて真空脱水ゾーンにおいて洗浄水を脱水して脱水ケーキを得ることからなる脱水方法。

IPC (5件)：

C04B 11/02 ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/77 ,  C02F 11/12 ZAB ,  C04B 11/028

FI (2件)：

B01D 53/34 125 R ,  B01D 53/34 125 E