特許

J-GLOBAL ID：200903019088894780

X線露光装置

発明者： 太田 裕久 ,  長谷川 隆行 ,  宮地 剛司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-060728
公開番号（公開出願番号）：特開2000-260690
出願日： 1999年03月08日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：

【要約】【課題】 マスク倍率を機械的手段で変形して補正した場合にも高精度の位置合わせ、露光を可能にする。【解決手段】 マスクの倍率補正によるマスクパターンの平面内の回転(θ方向)の位置ずれ量または平面の傾き方向(ωx、ωy)の位置ずれ量に応じてAAもしくはAF測定値またはステージ駆動量を補正する。また、倍率補正量を複数回に分割し、該分割した補正量を逐一該マスク倍率補正機構に指示するマスク倍率駆動制御手段を設ける。

請求項（抜粋）：

マスクと被露光体との平面方向またはそれと垂直な方向の相対位置ずれを測定する測定手段と、この測定手段の測定値に応じてマスクと被露光体とを前記各方向ならびに平面内の回転方向および平面の傾き方向に相対移動させるステージと、マスク倍率補正機構とを備えたX線露光装置において、マスクの倍率補正によるマスクパターンの平面内の回転方向の位置ずれ量または平面の傾き方向の位置ずれ量に応じて前記測定手段の測定値または前記ステージの駆動量を補正することを特徴とするX線露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503

FI (2件)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503

Fターム (17件)：

2H097BB04 ,  2H097CA15 ,  2H097GA45 ,  2H097KA12 ,  2H097KA13 ,  5F046DA16 ,  5F046DB14 ,  5F046ED01 ,  5F046FA14 ,  5F046FC04 ,  5F046FC08 ,  5F046GA02 ,  5F046GA04 ,  5F046GA12 ,  5F046GA14 ,  5F046GA18 ,  5F046GA20