特許
J-GLOBAL ID：200903019093050523
露光システム、露光装置及びデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-041555
公開番号（公開出願番号）：特開2005-101018
出願日： 2001年02月19日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】長期に渡ってデバイスの歩留まりを維持できる露光システムを提供する。【解決手段】ウエハWに対するレジストの塗布及び現像を行うコータ・デベロッパ50と露光装置10の本体チャンバ12とが、内部にウエハの受け渡し部83を有する受け渡し室70によりインラインにて接続されている。この受け渡し室には、給排気装置85が接続されている。この給排気装置により受け渡し室内の気体は、ドライエア、窒素、希ガスのいずれかにより置換される。従って、レジスト塗布後のウエハが本体チャンバ内に搬入される際にコータ・デベロッパ内で発生した化学的汚染物質などが本体チャンバ内に侵入する前に、受け渡し室内で除去される。これにより、本体チャンバ内へ流入する気体中の化学物質の含有率が所定値以下に抑制され、本体チャンバ内の露光装置本体における露光光透過率低下、像面照度劣化等が抑制される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
エネルギビームにより光学系を介して基板を露光する露光装置本体と、該露光装置本体を収容するチャンバと、該チャンバ内の空調を行う空調装置の少なくとも一部を収容する機械室とを有する露光装置と;
前記基板に対する感光剤の塗布及び現像の少なくとも一方を行う基板処理装置と;
前記チャンバと前記基板処理装置とを接続するとともに、その内部に前記基板処理装置と前記露光装置との間で前記基板の受け渡しを行う受け渡し部が設けられた受け渡し室と;
前記受け渡し室内にドライエア、窒素、及び希ガスのいずれかを供給するとともに、前記受け渡し室内の気体を外部に排気する給排気装置と;を備える露光システム。
IPC (3件)：
H01L21/027
, B65G49/00
, G03F7/22
H01L21/30 516F
, B65G49/00 A
, G03F7/22 H
, H01L21/30 562
5F046AA17
, 5F046AA22
, 5F046CD05
, 5F046DA27
, 5F046DB03
, 5F046JA22
, 5F046LA11
, 5F046LA18
