特許
J-GLOBAL ID:200903019107270840
シリケート-ポリマー複合材料の製造法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
青山 葆 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-515057
公開番号(公開出願番号):特表平9-505626
出願日: 1994年10月14日
公開日(公表日): 1997年06月03日
要約:
【要約】ポリマー(例えば、ポリ(エチレンオキサイド))またはポリスチレンが、2:1重層シリケートのギャラリーに溶媒非存在下挿入され、ポリマーが融解またはガラス転移を示さない複合材料が提供される。変法として、高さ1ナモメートル以下のシリケート層を含むポリマー(例えば、ポリアミド)マトリックスが、挿入中のシリケート層の層分解により産生される。
請求項(抜粋):
(a)(i)ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン、カルシウムイオン、マグネシウムイオンおよび有機カチオンからなる群から選択されるカチオンを有する2:1重層ギャラリー含有結晶シリケートおよび(ii)シリケート対ポリマーの重量比が1:1000から100:1であるポリマーを含む無溶媒混合物の形成、 (b)上記混合物内のシリケートおよびポリマーを反応させ、ポリマーをシリケートのギャラリーに挿入させる工程を含む、複合材料の製造法。
IPC (6件):
C08K 3/34 KAH
, C01B 33/44
, C08K 9/04 KCP
, C08L 71/02 LQD
, C08L 77/00 KKT
, C08L101/00
FI (6件):
C08K 3/34 KAH
, C01B 33/44
, C08K 9/04 KCP
, C08L 71/02 LQD
, C08L 77/00 KKT
, C08L101/00
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