特許
J-GLOBAL ID:200903019125247880

ポジ型ホトレジスト塗布液

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 阿形 明 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-321767
公開番号(公開出願番号):特開平9-160231
出願日: 1995年12月11日
公開日(公表日): 1997年06月20日
要約:
【要約】【課題】 溶剤の安全性が高く、基板全体にわたって膜厚の均一塗膜形成が可能で、面内均一性に優れ、また、塗れ性、密着性及び保存安定性が良好で、かつ乾燥性のよいポジ型ホトレジスト塗布液を提供する。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性樹脂及び(B)キノンジアジド基含有化合物を(C)(イ)酢酸3-メトキシブチル40〜80重量%、(ロ)2-ヘプタノン60〜20重量%から成る混合溶剤に溶解して成るポジ型ホトレジスト塗布液とする。
請求項(抜粋):
(A)アルカリ可溶性樹脂及び(B)キノンジアジド基含有化合物を(C)(イ)酢酸3-メトキシブチル40〜80重量%、(ロ)2-ヘプタノン60〜20重量%から成る混合溶剤に溶解したことを特徴とするポジ型ホトレジスト塗布液。
IPC (3件):
G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

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