流体処理法と装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-157258
公開番号（公開出願番号）：特開平5-309384
出願日： 1992年05月06日
公開日（公表日）： 1993年11月22日
要約：

【要約】【目的】大接触表面積、低流動抵抗で閉塞がないコンパクト、軽量、低コスト流体処理装置を得、粉塵、懸濁物除去、生物化学的、物理化学的又は化学的処理で吸収、脱臭、有害物、汚濁物処理を低コスト、かつ少ない処理動力で行う。【構成】薄板、箔あるいはフイルムと、要すれば薄い充填材、それらの支持部からなり実質的に独立している薄い処理室と、処理室に流体を薄く分割して供給する供給部から構成され薄く狭い可動性の通路に流体を通し、流体薄膜を形成して拡散抵抗を小にし効率を上げる。また多孔性材料、ガス透過性材料を使えば曝気、微生物処理、物理化学処理に、いっそう有効に働く。横型低水位装置とすれば、低圧曝気ができる。流動層類似条件で操作し、比較的低差圧のガス洗浄ができる。

請求項（抜粋）：

薄い板状体で相互の流通を制限した薄い処理室に仕切り、処理室内に支持された薄い可撓性または柔軟性板状体または多孔体を挿入し、流体を分割して各処理室を連続または回分通過する流体の処理法。

IPC (4件)：

C02F 3/06 , B01D 46/52 , B01D 46/54 , C02F 3/10

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭62-136293
特開昭60-147290
特開昭58-045794

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