特許

J-GLOBAL ID：200903019132814048

感光性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法及びそれを用いた電子装置の製造方法

発明者： 三輪 崇夫 ,  岡部 義昭 ,  石田 美奈 ,  高橋 昭雄 ,  沼田 俊一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-154805
公開番号（公開出願番号）：特開平7-140663
出願日： 1993年06月25日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：

【要約】【目的】水系溶剤で現像可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。【構成】カルボン酸基を有する高分子と電磁波の照射により塩基を発生する光塩基発生剤を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。【効果】水溶剤系で現像可能なポジ型感光性樹脂組成物の提供で、環境汚染防止,作業環境の改善,適用製品の高密度,高信頼度化が達成される。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】(式中、Aは炭素数2以上の有機基、nは10〜200,000 の整数、R1 は炭素数1以上の有機基,水素,ハロゲン原子のいずれかである。)で表わされる重合体の全重量に対してカルボキシル基の割合が20重量%以上であり、数平均分子量が10,000〜1,000,000 のカルボン酸重合体(イ)と、電磁波の照射により塩基を発生する光塩基発生剤(ロ)を前記カルボキシル基に対して0.2〜2.0モル当量含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/02