フォトレジスト膜の剥離装置及び剥離洗浄方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：栂村繁郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-194054
公開番号（公開出願番号）：特開平9-022867
出願日： 1995年07月07日
公開日（公表日）： 1997年01月21日
要約：

【要約】【課題】剥離液のミスト化による空気中への飛散により剥離液の消耗量の増大。【解決手段】フォトレジスト膜を被着した基板を垂直に浸漬させる剥離液を充満させた剥離槽と、剥離液を収容した剥離槽との間を、剥離液を循環させるタンクと、タンク内に剥離液の濃度を測定するセンサーを設け、センサーの信号により濃度低下の際に新らしい剥離液にタンクに供給する新液供給装置と、剥離槽中の基板と平行に移動しながら剥離液を基板に向かって噴射する液中噴射ノズルを設けたフォトレジスト膜の剥離装置及び剥離液にて剥離した基板をオゾンを含む純水にて水洗するフォトレジスト膜の剥離洗浄方法。

請求項（抜粋）：

フォトレジスト膜を被着した基板を垂直に浸漬させる剥離液を充満させた剥離槽と、剥離液を収容した剥離槽との間を、剥離液を循環させるタンクと、タンク内に剥離液の濃度を測定するセンサーを設け、センサーの信号により濃度低下の際に新らしい剥離液にタンクに供給する新液供給装置とから成るなるフォトレジスト膜の剥離装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H01L 21/304 341

FI (2件)：

H01L 21/30 572 B , H01L 21/304 341 M

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平2-243784
特開平3-295238
特開平3-166724

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