特許
J-GLOBAL ID：200903019146973637
微細パターン形成用原版
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
米田 潤三 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-232255
公開番号（公開出願番号）：特開平6-202309
出願日： 1993年08月26日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：
【要約】【目的】 線幅が微細であるとともに、膜厚も適度な微細パターンを高い精度で効率よく形成することができ高い耐久性を備えた微細パターン形成用原版を提供する。【構成】 基板表面の金属を陽極酸化することにより、電気絶縁性を有し基板との密着力が強いマスキング層を所定のパターンで形成して微細パターン形成用原版とする。
請求項（抜粋）：
少なくとも表面が陽極酸化可能な金属からなる基板と、該基板の表面に陽極酸化により所定パターンで形成された電気絶縁性のマスキング層とを備えることを特徴とする微細パターン形成用原版。
IPC (5件)：
G03F 1/08
, B41N 1/04
, C25D 11/04 311
, H01L 21/027
, H05K 3/20
