特許
J-GLOBAL ID：200903019151773077
X線発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光石 俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-304039
公開番号（公開出願番号）：特開平11-144653
出願日： 1997年11月06日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：
【要約】【課題】 電子ビームによる装置各部(X線ターゲットやX線取出窓等)の熱負荷の低減と電子ビームの有効利用とを図れるX線発生装置を提供する。【解決手段】 入射面を略凹型に形成したX線ターゲット23と、電子ビーム24をローレンツ力によりX線ターゲットに近づく方向に偏向してX線ターゲットに入射させると共に反射電子24a等をローレンツ力によりX線ターゲットに近づく方向に偏向してX線ターゲットに再入射させる電子ビーム偏向手段(磁場発生装置)とからなる電子ビーム再入射手段を設ける。或いは透過型の第1X線ターゲットと反射型の第2X線ターゲット(反射電子受熱部)とを有するX線ターゲット部と、電子ビームをローレンツ力により第1X線ターゲットに近づく方向に偏向させて第1X線ターゲットに入射させると共に反射電子をローレンツ力により第2X線ターゲットに近づく方向に偏向して第2X線ターゲットに再入射させる電子ビーム偏向手段(磁場発生装置)とからなる電子ビーム再入射手段を設ける。また電子ビーム形状を実際に又は見かけ上幅方向に長いリニア状とする。
請求項（抜粋）：
電子ビーム発生手段によって発生した電子ビームをX線ターゲットに入射してX線を発生するX線発生装置であって、X線ターゲットから放出された反射電子をローレンツ力により偏向させてX線ターゲットに再入射させる電子ビーム再入射手段を備えたことを特徴とするX線発生装置。
IPC (4件)：
H01J 35/08
, H01J 35/14
, H01J 35/30
, H05G 1/00
H01J 35/08 C
, H01J 35/14
, H01J 35/30
, H05G 1/00 E
