特許

J-GLOBAL ID：200903019159173737

シリカ被膜形成用水溶液及びシリカ被膜の形成方法

発明者： 矢野 幸太郎 ,  斉藤 康夫 ,  川崎 計二
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 矢口 平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-060893
公開番号（公開出願番号）：特開平9-249673
出願日： 1996年03月18日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：

【要約】【課題】 取扱い容易な手法及び条件で、複雑な形状の基材にも付き回りよく、均一なシリカ膜を焼成することなしに形成する方法を提供する。【解決手段】 テトラエトキシシラン及び特定のアルカリを含む事を特徴とする、新規なシリカ被膜形成用水溶液、及び該水溶液を用いたシリカ被膜の形成方法により、従来からのシリカ被膜の形成方法の問題点が解決できる。

請求項（抜粋）：

テトラエトキシシラン、及びアルカリを含むことを特徴とするシリカ被膜形成用水溶液。

IPC (4件)：

C07F 7/04 ,  C03C 17/30 ,  C09D183/02 PMQ ,  C08L 83/02 LRM

FI (4件)：

C07F 7/04 K ,  C03C 17/30 A ,  C09D183/02 PMQ ,  C08L 83/02 LRM