特許
J-GLOBAL ID：200903019183596088
多層光ディスクの製造方法および多層光ディスクの製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
角田 芳末
, 磯山 弘信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-310193
公開番号（公開出願番号）：特開2004-145983
出願日： 2002年10月24日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：
【課題】高密度記録による複数の光情報記録層が積層されてなる多層光ディスクにおいて、その各光情報記録層のそれぞれの偏芯量の改善、および複数の光情報記録層間相互の偏芯量の低減化を図る。【解決手段】複数の光情報記録層が積層されて成る多層光ディスクの製造方法であって、基板を基準軸に対して偏芯調整して該基準軸に対して位置設定する第1の位置設定工程と、他方の基板を、前記基準軸に対して位置設定する第2の位置設定工程と、これら設定された中間層が堆積された基板と、転写基板とを、前記基準軸に沿う方向に相対的に移行させて転写基板の転写凹凸パターンと前記基板に形成されたの中間層とを押圧して転写凹凸パターンを、中間層に転写して中間層に光情報記録層の凹凸パターンを形成する押圧工程と、転写基板を中間層から剥離する剥離工程とを少なくとも有し、両基板の偏芯を従来に比し、格段に改善することができるようにする。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
複数の光情報記録層が積層されて成り、少なくとも1層の光情報記録層が、情報部を構成する凹凸パターンの形成された中間層を有する多層光ディスクの製造方法であって、
前記光情報記録層が積層されるディスク基板と、前記凹凸パターンを形成する転写凹凸パターンを有する転写基板とのいずれか一方の基板を、基準軸に対して偏芯調整して該基準軸に対して位置設定する第1の位置設定工程と、
他方の基板を、前記基準軸に対して位置設定する第2の位置設定工程と、
これら位置設定されたディスク基板と、転写基板とを、これら間に前記中間層を介在させて前記基準軸の軸心方向に沿って相対的に移行させ、前記転写凹凸パターンを前記中間層に押圧して、該中間層に前記転写凹凸パターンの転写による凹凸パターンを形成する押圧工程と、
前記転写基板を前記中間層から剥離する剥離工程とを少なくとも有することを特徴とする多層光ディスクの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
5D121AA07
, 5D121FF15
, 5D121FF18
