特許

J-GLOBAL ID：200903019185646392

有機電界発光表示装置およびその製造方法

発明者： 柿沼 正康 ,  大迫 純一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 藤島 洋一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-007399
公開番号（公開出願番号）：特開2002-216955
出願日： 2001年01月16日
公開日（公表日）： 2002年08月02日
要約：

【要約】【課題】 簡易に製造でき歩留まりを向上させると共に大画面化が可能となる有機電界発光表示装置およびその製造方法を提供する。【解決手段】 基板11上に陽極層12、絶縁層15を積層し、この絶縁層15に陽極層12に達しない深さの貫通部15Aを陽極層12と直交するストライプ状に形成する。次に、貫通部15AにNiメッキを施し、内部を充填すると共に絶縁層15上に張り出す突出部Hを形成し、断面形状がボルト状の画素分離部16Aとする。陰極層18の形成は、この状態で基板11上の一面に行なわれる。このとき、画素分離部16Aでは、突出部Hが基板11上の他の領域より一段高くなっており、陰極層18が突出部Hにおいて自動的に分断される。これにより、メタルマスクや隔壁などを用いることなく、陰極層18が精度よくパターニングされる。

請求項（抜粋）：

第1の電極層と第1の絶縁層をこの順に形成する工程と、前記第1の絶縁層に、第1の貫通孔を前記第1の電極層に達するように形成する工程と、前記第1の貫通孔に引出し電極下部を形成する工程と、前記第1の絶縁層の一部を除去し、露出する前記第1の電極層の上に有機電解発光層を形成し、この有機電解発光層の上に第2の電極層および第2の絶縁層をこの順に設ける工程と、前記第2の絶縁層に、第2の貫通孔を前記引出し電極下部および第2の電極層のそれぞれに達するように形成する工程と、前記第2の貫通孔に金属層を形成し、第1の電極層に対する引出し電極の上部および第2の電極層に対する引き出し電極を同時に設ける工程とを含むことを特徴とする有機電界発光表示装置の製造方法。

IPC (5件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/06 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22

FI (5件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/06 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 Z

Fターム (10件)：

3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007CC05 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01