特許
J-GLOBAL ID:200903019187893010

X線露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 永井 冬紀
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-132011
公開番号(公開出願番号):特開平6-342100
出願日: 1993年06月02日
公開日(公表日): 1994年12月13日
要約:
【要約】【目的】 ガス発生に伴う光学系の性能低下を防止し、かつ、使用に伴う露光時間の長時間化を防ぐ。【構成】 X線源で発生されたX線2をウェハ7上に照射してこのウェハ7上にパターンを投影するX線露光光学系6を備えたX線露光装置において、X線2の照射によりウェハ7から発生する物質がX線露光光学系6に影響を及ぼさないようにウェハ7をX線露光光学系6から隔離配置した。
請求項(抜粋):
X線源で発生されたX線をウェハ上に照射してこのウェハ上にパターンを投影するX線露光光学系を備えたX線露光装置において、前記X線の照射により前記ウェハから発生する物質が前記X線露光光学系に影響を及ぼさないように前記ウェハを前記X線露光光学系から隔離配置したことを特徴とするX線露光装置。
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特開平4-309899
  • 縮小投影型X線リソグラフイ装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-239244   出願人:株式会社日立製作所
  • 特開平2-184799
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