特許
J-GLOBAL ID:200903019201699647

オニウム塩系酸発生剤を含む化学増幅型感放射線性組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP1999004304
公開番号(公開出願番号):WO2000-008525
出願日: 1999年08月09日
公開日(公表日): 2000年02月17日
要約:
【要約】本発明は、ヒドロキシスチレンを基本とする成膜性樹脂と、感放射線性酸発生剤としてフッ素化されたアルカンスルフォン酸を発生させるオニウム塩前駆体とを組み合わせて含む化学増幅型感放射線性組成物を提供する。この組成物によれば、アウトガスによる装置の腐食、T型のパターン形状、およびプロセス時間の遅れによる線幅の変化がなく、高い感度と解像力、良好なパターン形状とその安定性を実現することができる。
請求項(抜粋):
感放射線性酸発生剤としてフッ素化されたアルカンスルフォン酸を発生させるオニウム塩前駆体と、 ヒドロキシスチレンを基本とする成膜性樹脂とを少なくとも含んでなる、化学増幅型感放射線性組成物。
IPC (5件):
G03F 7/004 503 ,  C07C309/06 ,  C07C381/12 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601
FI (5件):
G03F 7/004 503 B ,  C07C309/06 ,  C07C381/12 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601

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