照射野形成装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：光石俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-313200
公開番号（公開出願番号）：特開平10-151211
出願日： 1996年11月25日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】【課題】腫瘍へのビーム照射範囲及びビームの到達深さ・奥行きを細かく分割・制御することにより、正常組織部に対する付与線量を低減することを目的とする。【解決手段】腫瘍12へのビーム照射範囲及びビームの到達深さ・奥行きを細かく分割・制御するための手段として、腫瘍12の奥行き方向への拡大ブラッグピーク幅22を決定していたリッジフィルタに代えて、この拡大ブラッグピーク幅22を任意に変えることができる可変レンジフィルタ21を採用するとともに、ビームの横断面方向に拡大ブラッグピーク幅22の値に対応してビーム照射範囲を細かく分割することが可能なマルチホールコリメータ20を採用したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

腫瘍へのビーム照射範囲及びビームの到達深さ・奥行きを細かく分割・制御するための手段として、腫瘍の奥行き方向への拡大ブラッグピーク幅を決定していたリッジフィルタに代えて、この拡大ブラッグピーク幅を任意に変えることができる可変レンジフィルタを採用するとともに、ビームの横断面方向に拡大ブラッグピーク幅の値に対応してビーム照射範囲を細かく分割することが可能なマルチホールコリメータを採用したことを特徴とする照射野形成装置。

IPC (3件)：

A61N 5/10 , G21K 1/02 , G21K 5/04

FI (3件)：

A61N 5/10 N , G21K 1/02 R , G21K 5/04 A

前のページに戻る