特許

J-GLOBAL ID：200903019224930745

半導体基板用洗浄液

発明者： 大塚 進 ,  上村 賢一 ,  森 良弘
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 八田 幹雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-085343
公開番号（公開出願番号）：特開平9-279189
出願日： 1996年04月08日
公開日（公表日）： 1997年10月28日
要約：

【要約】【課題】 より高清浄な半導体基板を得ることができる半導体基板用洗浄液を提供することである。【解決手段】 アンモニア、塩酸、硫酸およびフッ化水素よりなる群から選択された少なくとも1つを0.01〜85重量%と、次亜塩素酸、亜硝酸、ペルオクソ硫酸、ペルオクソ二硫酸アンモニウム、ペルオクソ硝酸、硝酸アンモニウムまたは一酸化二窒素のうちいずれか一つの酸化剤を0.01〜15重量%とよりなる水溶液であることを特徴とする半導体基板用洗浄液である。

請求項（抜粋）：

アルカリ性水溶液または酸性水溶液に、次亜塩素酸、亜硝酸、ペルオクソ一硫酸、ペルオクソ二硫酸、ペルオクソ二硫酸アンモニウム、ペルオクソ硝酸、硝酸アンモニウムおよび一酸化二窒素よりなる群から選択されたいずれか一つの酸化剤を添加してなることを特徴とする半導体基板用洗浄液。

IPC (5件)：

C11D 7/60 ,  H01L 21/304 341 ,  C11D 7:06 ,  C11D 7:18 ,  C11D 7:08

FI (2件)：

C11D 7/60 ,  H01L 21/304 341 L