特許

J-GLOBAL ID：200903019232467094

紫外線処理方法

発明者： 坂元 弘実 ,  細谷 浩二
出願人/特許権者： 日本電池株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-118338
公開番号（公開出願番号）：特開平9-278915
出願日： 1996年04月15日
公開日（公表日）： 1997年10月28日
要約：

【要約】【課題】 銀ペーストが塗布されたリードフレームやプリント基板等の被処理物を紫外線処理する場合には、銀ペーストの酸化が生じるため、紫外線強度,処理温度,オゾン濃度のコントロールを行い、また、銀の酸化が発生する前に処理を止める必要があるが、紫外線ランプの特性は経時変化するため処理条件のコントロールは極めて難しく、処理が不十分のまま終わるという問題があった。【構成】 銀ペーストが塗布されたリードフレームやプリント基板等の被処理物の表面に付着した有機化合物被膜を紫外線とオゾンにより分解、改質を行った後、この被処理物を100°C以上で加熱する紫外線処理方法。

請求項（抜粋）：

銀ペーストが塗布されたリードフレームやプリント基板等の被処理物の表面に付着した有機化合物被膜を紫外線とオゾンにより分解、改質を行った後、前記被処理物を100°C以上で加熱することを特徴とする紫外線処理方法。

IPC (2件)：

C08J 7/00 304 ,  C08J 7/00 301

FI (2件)：

C08J 7/00 304 ,  C08J 7/00 301