特許
J-GLOBAL ID：200903019234590136
基板処理装置用排液装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-161399
公開番号（公開出願番号）：特開平7-078799
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1995年03月20日
要約：
【要約】【目的】 設置スペース及び配管スペースを小さくする。【構成】 洗浄液排出部13は、複数の薬液により基板を処理する基板洗浄槽12を複数有する基板洗浄装置において、基板洗浄槽12から薬液をその種別毎に排出する装置である。この装置は、排液切り換え弁17と3つの排出管31〜33とを備えている。排液切り換え弁12は、基板洗浄装置内において各基板洗浄槽12に対応して設けられており、基板洗浄槽12からの排液動作を薬液の種別に応じて切り替え得る。3つの排出管31〜33は、基板洗浄装置1内において薬液の種別に対応して設けられており、排液切り換え弁12からの排液を種別において一括して排液する。
請求項（抜粋）：
複数種の処理液により基板を処理する基板処理槽を複数有する基板処理装置において、前記基板処理槽から前記処理液をその種別毎に排出する基板処理装置用排液装置であって、前記基板処理装置内において各基板処理槽に対応して設けられた、前記基板処理槽からの排液動作を前記処理液の種別に応じて切り換え得る複数の排液切り換え弁と、前記基板処理装置内において前記処理液の種別に対応して設けられた、前記排液切り換え弁からの排液を前記種別に応じて一括して排出するための一括排液部と、を備えた基板処理装置用排液装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/304 341
