半導体製造装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：油井透 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-367275
公開番号（公開出願番号）：特開2001-185492
出願日： 1999年12月24日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：

【要約】【課題】液体ソースの流量制御、安定供給を可能とし、コンパクト化、低コスト化を実現する。【解決手段】被処理物に成膜を施す反応室に、成膜用の液体ソースを導入するソース供給配管33が設けられる。このソース供給配管33に、成膜用の液体ソースの流量を計測する液体流量計34と、液体ソースを瞬時にガス化するベーパコントローラ35とを設ける。さらにベーパコントローラ35によりガス化したソース流量が前記液体流量計34の計測値により一定量となるようにフィードバック制御するフィードバック制御系36を設ける。

請求項（抜粋）：

被処理物に成膜を施す反応室と、前記反応室へ成膜用の液体ソースを導入するソース供給ラインと、前記ソース供給ラインに流れる成膜用の液体ソースを流量制御する液体流量制御装置と、前記液体流量制御装置で流量制御された液体ソースをガス化する蒸気圧制御装置とを備えた半導体製造装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 , C23C 16/448

FI (2件)：

H01L 21/205 , C23C 16/448

Fターム (24件)：

4K030AA06 , 4K030AA09 , 4K030AA13 , 4K030AA18 , 4K030BA40 , 4K030CA04 , 4K030CA06 , 4K030EA01 , 4K030FA10 , 4K030KA41 , 4K030LA15 , 5F045AA03 , 5F045AB33 , 5F045AC07 , 5F045AC12 , 5F045AD09 , 5F045AD10 , 5F045AF03 , 5F045AF07 , 5F045BB08 , 5F045EC07 , 5F045EC09 , 5F045EE02 , 5F045EE04

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