基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：稲岡耕作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-099345
公開番号（公開出願番号）：特開平10-289889
出願日： 1997年04月16日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：

【要約】【課題】基板の回転停止を自動的に検出でき、その結果基板を良好に処理できる基板処理装置を提供する。【解決手段】このウエハ洗浄装置には、ウエハWの回転に従って回転する3つの従動ローラ13のうち中央の従動ローラ13bの回転状態を検出するための回転状態検出部100が備えられている。従動ローラ13bの回転が停止すると、回転停止信号が回転状態検出部100から判定部111に出力される。判定部111は、タイマ112を利用して、回転停止信号の連続出力時間が予め定める設定時間に達するか否かを判別する。連続出力時間が設定時間に達すれば、ウエハWの回転が停止していると判定し、当該洗浄処理以降の処理を継続し、かつ当該洗浄処理以前の処理を停止させるサイクル停止処理、および警報を発生させる警報発生処理を実行する。

請求項（抜粋）：

回転駆動力を発生する回転駆動源と、回転駆動源からの回転駆動力を基板に伝達する駆動ローラを含み、ほぼ円形の基板の端面に当接してその基板を保持する保持ローラと、基板の回転に従って回転する従動ローラと、従動ローラの回転状態を検出し、回転が停止している場合に、回転停止信号を出力する回転状態検出手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304

FI (3件)：

H01L 21/304 341 B , H01L 21/304 341 N , H01L 21/304 341 S

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