特許
J-GLOBAL ID：200903019283094489
5-ヒドロキシ-4-チオメチルピラゾール化合物の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-102963
公開番号（公開出願番号）：特開2005-289824
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
【課題】5-ヒドロキシ-4-チオメチルピラゾール化合物を簡便に、且つ収率良く製造する方法の提供。【解決手段】一般式(1)【化1】(式中、R1は水素原子基等を示し、R2は電子吸引性基を示す。)で表されるピラゾール類に、塩基及びホルムアルデヒドの存在下、一般式(2)【化2】(式中、Xは水素原子又は金属を示し、R3はアルキル基等を示し、nは0又は2を示す)表される硫黄化合物を反応させることによる、一般式(3)【化3】(式中、R1、R2、R3、nは、前記と同じ意味を示す。)で表される5-ヒドロキシ-4-チオメチルピラゾール化合物の製造方法。【効果】特殊な装置や高価な触媒、遷移金属等を用いず、簡便かつ穏やかに、単一工程で収率よく5-ヒドロキシ-4-チオメチルピラゾール化合物を製造でき、触媒等に由来する有害廃棄物も出ず、溶媒に水を用いることもでき環境にも優しく、工業的利用価値が高い。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
一般式(1)
IPC (2件)：
FI (2件)：
C07D231/20 C
, C07D413/12
4C063AA01
, 4C063BB08
, 4C063CC51
, 4C063DD22
, 4C063EE05
