特許

J-GLOBAL ID：200903019292794779

位相反転マスク及びその製造方法

発明者： ズン・ショク・イ
出願人/特許権者： エルジイ・セミコン・カンパニイ・リミテッド
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-161142
公開番号（公開出願番号）：特開平10-069060
出願日： 1997年06月18日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】 透光性基板に損傷を与えないでセルフアライメントにより製造できる位相反転マスク及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 複数のオープン領域が形成された遮光層を基板上に設け、オープン領域のうちの1つのオープン領域リム部分に第1移相用層が形成された第1透光パターンと、前記オープン領域の中で他の1つのオープン領域中央部分に第2移相用層が形成された第2透光パターンとを形成する。

請求項（抜粋）：

複数のオープン領域が形成された遮光層を具備した位相反転マスクにおいて、前記オープン領域のうちの1つのオープン領域リム部分に第1移相用層が形成された第1透光パターンと、前記オープン領域の中で他の1つのオープン領域の中央部分に第2移相用層が形成された第2透光パターンがエッチングストッパ層上に交互に形成されていることを特徴とする位相反転マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 1/14 E ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 位相シフト・マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-248011   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション