マイクロ波処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：岩橋文雄 , 内藤浩樹 , 永野大介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-331530
公開番号（公開出願番号）：特開2008-146967
出願日： 2006年12月08日
公開日（公表日）： 2008年06月26日
要約：

【課題】複数の給電部を加熱室壁面に最適配置し夫々の給電部からの放射マイクロ波の位相差を最適化することで、様々な被加熱物を所望の状態に加熱する装置を提供する。【解決手段】マイクロ波発生部10は発振部11、2段構成の電力分配部12a、12b、12c、初段増幅部13a〜13d、主増幅部15a〜15d、被加熱物を収納する加熱室19、加熱室19の各壁面に配置されマイクロ波発生部10の4つの出力が伝送されそのマイクロ波を加熱室19内に放射供給する給電部25a〜25d、マイクロ波伝送路14cに挿入した位相可変部26を備え、給電部25a〜25dの配置構成および各給電部間のマイクロ波の位相差の可変制御により、様々な被加熱物の加熱の集中化あるいは均一化を促進させ所望の加熱状態を実現させることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

発振部と、前記発振部の出力を複数に分配して出力する電力分配部と、前記電力分配部の出力をそれぞれ電力増幅する増幅部と、前記増幅部の出力をそれぞれ出力する複数の出力部とを有するマイクロ波発生部と、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室に前記マイクロ波発生部のそれぞれの出力を供給する複数の給電部とを備え、前記複数の給電部は加熱室を構成する壁面の異なる複数の壁面に配置するとともに近接する2つの給電部から放射されるマイクロ波の位相差が略90度となるように給電部を配置したマイクロ波処理装置。

IPC (4件)：

H05B 6/52 , H05B 6/64 , H05B 6/70 , H05B 6/74

FI (4件)：

H05B6/52 , H05B6/64 D , H05B6/70 F , H05B6/74 E

Fターム (5件)：

3K090AA01 , 3K090AB01 , 3K090AB14 , 3K090BB15 , 3K090CA16

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開昭56-132793号公報

審査官引用 (4件)

電子レンジ
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-262550 出願人：三星電子株式会社
特開昭60-193292
特開昭56-132793

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