特許
J-GLOBAL ID：200903019323999668
分子配向膜の製造方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩出 真一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-331095
公開番号（公開出願番号）：特開平8-158044
出願日： 1994年12月07日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：
【要約】【目的】 レーザーアブレーション(飛翔)による有機薄膜作製とともに、磁力を印加し、薄膜を構成する有機分子の配列を制御する分子配向膜の製造方法及び装置を提供する。【構成】 反応チャンバー14内に固体の原料有機化合物16を配置するとともに、反応チャンバー14内に磁力を印加し、この反応チャンバー14内を排気して減圧状態にした後、レーザーを原料有機化合物16に照射し有機分子を励起・活性化させて、有機分子を飛び出させ、原料有機化合物16の対面に配置した基板20上に、励起された有機分子を析出させて薄膜を作製するとともに、薄膜を構成する有機分子の配列を磁力により制御して、分子配向膜26を製造する。
請求項（抜粋）：
反応チャンバー内に固体の原料有機化合物を配置するとともに、反応チャンバー内に磁力を印加し、この反応チャンバー内を排気して減圧状態にした後、レーザーを原料有機化合物に照射し有機分子を励起・活性化させて、有機分子を飛び出させ、原料有機化合物の対面に配置した基板上に、励起された有機分子を析出させて薄膜を作製するとともに、薄膜を構成する有機分子の配列を磁力により制御することを特徴とする分子配向膜の製造方法。
IPC (4件)：
C23C 14/28
, C08J 5/18
, G02F 1/35 504
, C09K 3/00
