特許
J-GLOBAL ID：200903019351348834
薄膜処理方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-102836
公開番号（公開出願番号）：特開平11-293481
出願日： 1998年04月14日
公開日（公表日）： 1999年10月26日
要約：
【要約】【課題】本発明は、AlOx を下地材料に対して十分大きな選択比でエッチングする。【解決手段】エッチングガス17としてBCl3 と飽和若しくは不飽和炭化水素結合を有する少なくとも1種類のガスとの混合ガスを用いた。
請求項（抜粋）：
エッチングガスの励起により生じた中性活性種と反応性イオンを用いて酸化アルミニウム薄膜を下地材料のアルミニウムに対して選択的にエッチングする薄膜処理方法において、前記エッチングガスは、BCl3 と飽和若しくは不飽和炭化水素結合を有する少なくとも1種類のガスとを含むことを特徴とする薄膜処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23F 4/00 E
, H01L 21/302 E
