特許
J-GLOBAL ID：200903019351731794
マスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-102703
公開番号（公開出願番号）：特開平9-292701
出願日： 1996年04月24日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：
【要約】【課題】 本発明は露光用マスクの製造方法において、特に近接せるパターンを正確に形成する方法に関し、補助パターンを用いずに露光パターンを得る。【解決手段】 露光されるマスクパターンのうち、マスクパターンの幅、或いは隣接するマスクパターンの間隔が光の波長に起因する解像限界未満であるかを判別し、幅、或いは間隔が解像限界未満である部分については、元のパターンよりも幅が広い新たなパターンを発生させる。
請求項（抜粋）：
露光されるマスクパターンのうち、相互に隣接するマスクパターンの間隔が光の波長に起因する解像限界未満であるかを判別し、当該間隔が解像限界未満である部分については、元のパターンよりも幅が広い新たなパターンを発生させることを特徴とするマスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
