特許
J-GLOBAL ID：200903019353130500
被膜形成装置及び被膜形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平2-418075
公開番号（公開出願番号）：特開平5-044041
出願日： 1990年12月12日
公開日（公表日）： 1993年02月23日
要約：
【要約】【目的】大気圧において被膜を形成する装置とその方法を提供するものである。【構成】放電空間において発生したラジカルが基板表面に達するまでの間、外気の影響を受けないように放電空間を包むようにパージガスで遮蔽を施したものである。また、磁場とバイアス電圧をプラズマに作用させることにより、該ラジカルが基板表面に到達し易くなり、到達したラジカルにより基板表面において被膜形成反応を促進させたものである。
請求項（抜粋）：
被膜の形成されるべき基体に対して開口を有する放電空間と該放電空間を包むように配置したパージガスノズルを有する被膜形成装置であって、前記パージガスノズルから吹き出したパージガスが実質的に前記放電空間を大気雰囲気より遮断することを特徴とする被膜形成装置。
引用特許：
前のページに戻る
