特許
J-GLOBAL ID：200903019359919288
塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-063663
公開番号（公開出願番号）：特開平7-265769
出願日： 1994年03月31日
公開日（公表日）： 1995年10月17日
要約：
【要約】【構成】 グラビアロールによって塗料をピックアップし、可撓性支持体へ塗料を転写した後、スムーザによってこの塗料を平滑化する塗布装置において、前記スムーザを一端が自由端とされたプラスチックフィルム20より構成する。このプラスチックフィルム20は、先端部分21と上段部分22とでは厚みが異なり、これに伴ってスティフネス値も異なる。具体的には、先端部分21のスティフネス値は1000〜10000、上段部分22のスティフネス値は1500〜16000と、先端部分21のスティフネス値の方が上段部分22よりも小とされる。なお、上記先端部分21の長さは3〜20mmとする。【効果】 平滑な塗膜を形成することができるため、磁性塗料の塗布に適用すると、磁気特性や耐久性に優れた磁性層を形成することができる。
請求項（抜粋）：
少なくとも、表面に設けられたセル内に塗料をピックアップさせるグラビアロールと、前記セル内から可撓性支持体へ転写塗布された塗料を平滑化するスムーザとから構成される塗布装置において、前記スムーザは、一端が自由端とされたフィルム状の弾性体よりなり、前記自由端の先端部分と上段部分とでスティフネス値が2段階に異なり、前記先端部分のスティフネス値が前記上段部分よりも小とされることを特徴とする塗布装置。
IPC (3件)：
B05C 1/08
, B05C 11/04
, G11B 5/842
