特許
J-GLOBAL ID：200903019378526645
プラズマ発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-143307
公開番号（公開出願番号）：特開平5-315096
出願日： 1992年05月08日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：
【要約】【目的】プラズマの均一性と高密度化を保証し、被処理物のダメージを軽減する。【構成】陰電極11、陽電極12を同心状に配設し、両電極間に高周波電源8を接続すると共に前記電極の周囲に軸心方向の磁場を発生させる主磁場コイル13を設け、前記両電極の一端側に被処理物16を配設し、発生する磁場と電界を直角とし、電界、磁束密度の相乗で電子を駆動し、低気圧で高密なプラズマを発生させる。又被処理物は発生したプラズマの外に位置し、直接プラズマに晒さない。
請求項（抜粋）：
陰電極、陽電極を同心状に配設し、両電極間に高周波電源を接続すると共に前記電極の周囲に軸心方向の磁場を発生させる主磁場コイルを設け、前記両電極の一端側に被処理物を配設する様構成したことを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (3件)：
H05H 1/46
, C23F 4/00
, H01L 21/302
