特許
J-GLOBAL ID：200903019379649171
ガス貯蔵システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊藤 洋二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-038120
公開番号（公開出願番号）：特開2001-219825
出願日： 2000年02月09日
公開日（公表日）： 2001年08月14日
要約：
【要約】【課題】 水素等のガスを貯蔵するガス貯蔵容器を備えるガス貯蔵システムにおいて、貯蔵容器へのガス充填および放出効率を向上させる。【解決手段】 ガス充填時には、ガス貯蔵容器12に一旦供給されたガスを、ガス循環流路16を介して、ガス貯蔵容器12から取り出し、ガス供給装置1を経由させて再びガス貯蔵容器12に循環させる。このガスを熱媒体として利用し、ガス循環流路16を循環するガスを冷却してガス貯蔵容器12を冷却する。同様にガス放出時には、ガス循環流路16を流れるガスを加熱してガス貯蔵容器を加熱する。
請求項（抜粋）：
ガスを貯蔵するガス貯蔵容器(12)と、前記ガス貯蔵容器(12)にガスの供給・充填を行うガス供給装置(1)とを備え、前記ガス貯蔵容器(12)に一旦供給されたガスを、ガス循環流路(16)を介して、前記ガス貯蔵容器(12)から取り出し、前記ガス供給装置(1)を経由させて再び前記ガス貯蔵容器(12)に循環させるようになっており、前記ガス循環流路(16)を循環するガスを冷却することを特徴とするガス貯蔵システム。
Fターム (1件)：
引用特許：
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