特許

J-GLOBAL ID：200903019380856954

露光用反射型マスクブランク、その製造方法及び露光用反射型マスク

発明者： 笑喜 勉
出願人/特許権者： HOYA株式会社
代理人 (1件)： 阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-353659
公開番号（公開出願番号）：特開2003-318101
出願日： 2002年12月05日
公開日（公表日）： 2003年11月07日
要約：

【要約】【課題】 反射型マスクの変形に起因する転写精度の劣化を防止し、パターン寸法精度の低下を防止する。【解決手段】 基板1と、該基板1上に順次形成された、露光光を反射する多層反射膜2と、光を吸収する吸収膜4とを備え、前記多層反射膜2と吸収膜4との間に吸収膜のエッチング環境に耐性を有する中間層3を形成した露光用反射型マスクブランクであって、前記中間層3は、Taを主要な金属元素とする材料であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基板と、該基板上に順次形成された、露光光を反射する多層反射膜と、露光光を選択的に吸収する吸収膜とを備え、前記多層反射膜と吸収膜との間に吸収膜のエッチング環境に耐性を有する中間層を形成した露光用反射型マスクブランクであって、前記中間層は、Taを主要な金属成分として含む材料であることを特徴とする露光用反射型マスクブランク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (2件)：

G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 531 M

Fターム (7件)：

2H095BA10 ,  2H095BB11 ,  2H095BB34 ,  2H095BC26 ,  5F046GD05 ,  5F046GD10 ,  5F046GD20