特許
J-GLOBAL ID：200903019384901733
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-097085
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283415
出願日： 1996年04月18日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：
【要約】【課題】 投影光学系の回転及び並進変位に起因する結像位置のずれを高精度に補償する。【解決手段】 マスク12に描かれたパターンを感光基板16上に所定の倍率で投影する投影光学系14を回転低感度点Cを含む平面で架台31に支持する。回転低感度点Cは、投影光学系14の物側節点及び像側節点間を投影倍率比に内分する点、もしくはマスク12と感光基板16の間を投影倍率比に内分する点である。又は、レーザ干渉計等により回転低感度点の並進変位を計測し、その変位をマスクステージ13及び基板ステージ17の位置制御のオフセットとする。
請求項（抜粋）：
マスクに描かれたパターンを感光基板上に所定の倍率で投影する投影光学系と、前記投影光学系を支持する架台とを備える投影露光装置において、前記架台は、前記投影光学系の物側節点及び像側節点間を前記倍率比に内分する回転低感度点を含む平面又は該平面の近傍において前記投影光学系を支持することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 515 D
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 Z
