特許
J-GLOBAL ID:200903019387667200
小型化全分析システム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
久保田 千賀志 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-166933
公開番号(公開出願番号):特開平8-334505
出願日: 1996年06月06日
公開日(公表日): 1996年12月17日
要約:
【要約】【課題】 実質的に平坦な基板にレーザ切削された小型化カラムデバイスを提供する。【解決手段】 小型化カラムデバイス2から成る小型化全分析システム200であって、(a)第1平坦表面6にレーザ切削された第1マイクロチャネル10を有するが、シリコン又は二酸化ケイ素以外の材料から構成され、かつ第1マイクロチャネルが少なくとも2つの試料操作領域202〜220から成る基板4と、(b)試料操作領域が試料取り扱い要素214〜220と流体連絡して試料流路要素202〜212を定めている、第1平坦表面上に配置され、第1マイクロチャネルとの組合せで第1試料処理区画14を形成するカバー板12と、(c)第1試料処理区画に連絡し、外部の流体源から該試料処理区画を通して流体を通過させる、少なくとも1つの入口ポート18と出口ポート22とを含む。
請求項(抜粋):
小型化カラムデバイス(2)から成る小型化全分析システム(200)であって、(a)第1平坦表面(6)及び第2平坦表面(8)の実質的に平坦な対向表面をもつ基板(4)であり、前記基板(4)は、前記第1平坦表面(6)にレーザ切削された第1マイクロチャネル(10)を有するが、シリコン又は二酸化ケイ素以外の材料から構成され、かつ前記第1マイクロチャネル(10)が少なくとも2つの試料操作領域(202,204,206,208,210,212,214,216,218,220)から成る、前記基板(4)と、(b)前記第1平坦表面(6)上に配置され、前記第1マイクロチャネル(10)との組合せで第1試料処理区画(14)を形成するカバー板(12)であり、試料操作領域(202,204,206,208,210,212,214,216,218,220)が試料取り扱い要素(214,216,218,220)と流体連絡して試料流路要素(202,204,206,208,210,212)を定めている、前記カバー板(12)と、(c)第1試料処理区画(14)に連絡し、外部の流体源から該試料処理区画(14)を通して流体を通過させる、少なくとも1つの入口ポート(18)と少なくとも1つの出口ポート(22)と、を含んで成ることを特徴とする小型化全分析システム。
引用特許:
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