処理ガス排出物の処理

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-060906
公開番号（公開出願番号）：特開2002-018237
出願日： 2001年01月29日
公開日（公表日）： 2002年01月22日
要約：

【要約】【課題】処理排気に含まれる有害ガスの環境への持ち込みを最小にする。【解決手段】処理排気中のペルフルオロ化合物等の有害ガスは、処理排気ガスとヒドロキシル基生成添加物質および/または酸素基生成添加物質との反応により除去される。他の態様として反応を促進するエネルギーは、加熱器、触媒および/または光活性器により提供できる。

請求項（抜粋）：

(a)排気ガスが通る排出部を有し、基板を活性化ガス中で処理可能な処理室と、(b)前記排出部に接続され、ヒドロキシル基または酸素含有化学種を含む添加ガスを前記排気ガスに供給して前記排気を処理する添加ガス供給部と、を備える、基板を処理可能な装置。

IPC (6件)：

B01D 53/68 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/70 , B01D 53/86 , B01J 19/08 , B01J 19/12

FI (6件)：

B01J 19/08 H , B01J 19/12 C , B01D 53/34 134 C , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/36 G , B01D 53/34 134 E

Fターム (63件)：

4D002AA22 , 4D002AA23 , 4D002AC10 , 4D002BA02 , 4D002BA05 , 4D002BA09 , 4D002BA12 , 4D002BA13 , 4D002DA35 , 4D002DA51 , 4D002DA52 , 4D002DA70 , 4D002EA05 , 4D002GA03 , 4D048AA11 , 4D048AA21 , 4D048AC07 , 4D048AC08 , 4D048AC09 , 4D048BA03X , 4D048BA06X , 4D048BA10X , 4D048BA11X , 4D048BA18X , 4D048BA23X , 4D048BA26X , 4D048BA27X , 4D048BA30X , 4D048BA31X , 4D048BA32X , 4D048BA34X , 4D048BA35X , 4D048BA37X , 4D048BA38X , 4D048BA41X , 4D048BA45X , 4D048BA46X , 4D048BB01 , 4D048BB02 , 4D048CA07 , 4D048CC38 , 4D048CC41 , 4D048CC52 , 4D048CC61 , 4D048CC63 , 4D048CD02 , 4D048EA03 , 4G075AA03 , 4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075AA37 , 4G075BC04 , 4G075BC06 , 4G075CA02 , 4G075CA24 , 4G075CA32 , 4G075CA33 , 4G075DA01 , 4G075EB41 , 4G075FB01 , 4G075FB02 , 4G075FC04 , 4G075FC15

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