プラズマのための接地路を提供する電極構造を具えたプラズマ反応器、及び同プラズマ反応器を製造する方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石原昌典 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-568101
公開番号（公開出願番号）：特表2002-524843
出願日： 1999年08月26日
公開日（公表日）： 2002年08月06日
要約：

【要約】プラズマ処理ツール、複数ソースプラズマエッチング装置、及びエッチング方法が開示されている。一つの実施例では、内部基板と該基板に接合した内部側壁とを有する処理室が提供される。ほほ平面状の誘導ソースが処理室の近接して設けられる。内部側壁の全面より狭い領域に受容される絶縁ライナーが、処理室内の側壁上に設けられる。好ましい実施例では、内部側壁は接地可能部分を有し、絶縁ライナーは接地可能内部側壁部分を露出させるために設けられた通路を有する。その後、処理室内で発生したプラズマは、露出された内部側壁に延びた接地路に沿って配置される。もう一つの実施例では、絶縁ライナーは処理室内に取り外し可能に装着される。

請求項（抜粋）：

複数ソースプラズマ処理ツールであって、該ツールは、内部基板及び該内部基板に接合した内部側壁とを有する処理室と、前記処理室の近傍に装着されたほぼ平面状誘導ソースと、前記処理室内で前記内部側壁上に設けられた絶縁ライナーであって、該ライナーは前記側壁の全体よりは狭い範囲に設けられる絶縁ライナーと、を具備することを特徴とするプラズマ処理ツール。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 , B01J 19/08 , H01J 37/32

FI (3件)：

B01J 19/08 H , H01J 37/32 , H01L 21/302 B

Fターム (15件)：

4G075AA30 , 4G075BC06 , 4G075BD14 , 4G075CA47 , 4G075EB41 , 4G075EC21 , 4G075FC13 , 4G075FC15 , 5F004AA01 , 5F004BA20 , 5F004BB18 , 5F004BB23 , 5F004BB29 , 5F004BC08 , 5F004EB01

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