特許

J-GLOBAL ID：200903019396997159

高Pスラグの製造方法

発明者： 石川 稔
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 広瀬 章一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-328025
公開番号（公開出願番号）：特開平11-158526
出願日： 1997年11月28日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：

【要約】【課題】 P濃度が0.15%以下の溶銑を出発原料として、P2 O5 が10〜35%含有する肥料として直接使用可能な高Pスラグを得る方法を提供する。【解決手段】 P濃度が0.15%以下の溶銑を脱P処理して得られるスラグを還元抽出して得られる0.5〜3%のPおよび0.1%以下のSiを含む高P溶銑を生成する第1工程と、この高P溶銑にスラグ塩基度が2〜8となるようにフラックスを添加し、炭素濃度が1%以下まで酸化精錬を行う第2工程とから構成され、P2 O5 濃度が10〜30%である高Pスラグを得る。第1工程後に高P溶銑中のMnおよびSiを低下させてから第2工程の処理を行い、P2 O5 濃度が10〜35%である高Pスラグを得る。

請求項（抜粋）：

P濃度が0.15%以下の溶銑を脱Pして得られるP含有スラグを溶銑浴に投入し、炭素材および酸化鉄または/および酸素を供給して、スラグ中のPを溶銑浴中に還元抽出して0.5〜3%のPおよび0.1%以下のSiを含む溶銑を生成する第1工程と、第1工程で生成したスラグを除去した後、該溶銑に処理後のスラグ塩基度(CaO/SiO2 重量%比)が2〜8になるようにフラックスを添加し、さらに酸化鉄源の添加および/または酸素ガスの吹き込みを行って溶銑中に含まれる炭素濃度を1%以下まで低下させる第2工程により処理後のP2 O5 濃度が10〜30%であるスラグを得ることを特徴とする高Pスラグの製造方法。

IPC (3件)：

C21C 5/36 ,  C04B 5/06 ,  C21C 1/02

FI (3件)：

C21C 5/36 ,  C04B 5/06 ,  C21C 1/02 L