特許

J-GLOBAL ID：200903019398459375

排ガス処理方法およびその装置

発明者： 佐藤 和宏 ,  三嶋 弘次
出願人/特許権者： 株式会社タクマ
代理人 (1件)： 井上 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-235564
公開番号（公開出願番号）：特開2002-045651
出願日： 2000年08月03日
公開日（公表日）： 2002年02月12日
要約：

【要約】【課題】 粒子径の小さな光触媒を用い、有機塩素化合物の吸着率を向上させるとともに、分解効率を向上させることのできる排ガス処理方法およびその装置を提供する。【解決手段】 混合器1にて被処理排ガス4を光触媒6と接触させてその排ガス中の有機塩素化合物を光触媒に吸着させた後、バグフィルター2によりその光触媒6を排ガスから分離し、次いでその光触媒6を光触媒分解装置3内に導入して流動用ガス17により流動化させるとともに、この光触媒分解装置3内の光触媒6に光を照射し、この照射により発現する光触媒6の酸化作用によってその光触媒6に吸着されている有機塩素化合物を分解除去する。

請求項（抜粋）：

有機塩素化合物を含む排ガスを処理する排ガス処理方法であって、排ガスを光触媒と接触させてその排ガス中の有機塩素化合物を光触媒に吸着させた後、集塵装置によりその光触媒を排ガスから分離し、次いでその光触媒を光触媒分解装置内に導入して流動用ガスにより流動化させるとともに、この光触媒分解装置内の光触媒に光を照射し、この照射により発現する光触媒の酸化作用によってその光触媒に吸着されている有機塩素化合物を分解除去することを特徴とする排ガス処理方法。

IPC (4件)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/70

FI (4件)：

B01D 53/36 ZAB G ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 134 E ,  B01D 53/36 J

Fターム (27件)：

4D002AA21 ,  4D002AC04 ,  4D002BA04 ,  4D002BA05 ,  4D002BA09 ,  4D002BA14 ,  4D002BA20 ,  4D002CA09 ,  4D002CA11 ,  4D002DA11 ,  4D002DA21 ,  4D002DA35 ,  4D002EA02 ,  4D048AA11 ,  4D048AB01 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA13X ,  4D048BA41X ,  4D048BB01 ,  4D048CB03 ,  4D048CD03 ,  4D048CD05 ,  4D048CD08 ,  4D048CD10 ,  4D048EA01 ,  4D048EA04