堆積膜形成装置および堆積膜形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長尾達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-321085
公開番号（公開出願番号）：特開2003-124132
出願日： 2001年10月18日
公開日（公表日）： 2003年04月25日
要約：

【要約】【課題】高周波電極の誘電損失を減少させ、反応空間外の異常放電を防止し、さらに高周波電極の浮遊容量及び高周波給電部の抵抗を減少させ、大電力の高周波プラズマによって大面積で均一な高速成膜が可能となる堆積膜形成装置および堆積膜形成方法を提供する。【解決手段】真空容器内の高周波電極と該接地電極の間に形成された反応空間で高周波プラズマにより堆積膜を形成する堆積膜形成装置または方法において、該高周波電極の前記反応空間に面する側とは反対側の空間に、該高周波電極及び前記接地電極に対して直流電位的に絶縁された導電体プレートを形成し、該導電体プレートをその裏面が大気に接するようにして配置すると共に、少なくとも絶縁体からなる部材を介して該真空容器に設置固定し、堆積膜を形成する。

請求項（抜粋）：

真空容器内に、高周波電力を供給する平板状の高周波電極と前記高周波電極に対向する接地電極を備え、前記高周波電極と前記接地電極の間に反応空間を構成し、該反応空間で高周波プラズマにより堆積膜を形成する堆積膜形成装置において、前記高周波電極の前記反応空間に面する側とは反対側の空間に、前記高周波電極及び前記接地電極に対して直流電位的に絶縁された導電体プレートを有し、該導電体プレートはその裏面が大気に接するようにして配置されると共に、少なくとも絶縁体からなる部材を介して、前記真空容器に設置固定されていることを特徴とする堆積膜形成装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 , C23C 16/505

FI (2件)：

H01L 21/205 , C23C 16/505

Fターム (16件)：

4K030AA04 , 4K030AA06 , 4K030AA17 , 4K030BA29 , 4K030BB04 , 4K030CA06 , 4K030FA03 , 4K030JA18 , 5F045AA08 , 5F045AB04 , 5F045BB15 , 5F045BB20 , 5F045DP04 , 5F045EC01 , 5F045EH04 , 5F045EH13

引用特許：

審査官引用 (2件)

液晶表示素子
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-296945 出願人：松下電器産業株式会社
特公平5-010818

前のページに戻る