特許

J-GLOBAL ID：200903019443896870

オルガノポリシロキサンおよびその製造方法

発明者： 森田 好次
出願人/特許権者： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-331409
公開番号（公開出願番号）：特開平5-140317
出願日： 1991年11月20日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 1分子中にエポキシ基結合有機基と二価炭化水素基を介して結合するジオルガンモポリシロキサン残基とを有し、必要に応じてさらにアルコキシシリルアルキル基を有する、一官能性シロキサン単位(M単位)と四官能性シロキサン単位(Q単位)からなるオルガノポリシロキサンおよびその製造方法。【構成】 一般式:{式中、R1は一価炭化水素基、R2は水素原子または一価炭化水素基、R3はエポキシ基結合有機基、アルコキシシリルアルキル基および一般式:(式中、R1は一価炭化水素基、R4は二価炭化水素基。nは1〜500。)で表れるジオルガノポリシロキサン残基からなる群から選択される基。aは0または正数、bとcは正数、a/cは0〜4、b/cは0.05〜4、かつ(a+b)/cは0.2〜4。}で表され、1分子中にエポキシ基結合有機基とジオルガノポリシロキサン残基とを少なくとも1個づつ有するオルガノポリシロキサン。

請求項（抜粋）：

一般式:【化1】{式中、R1はアルケニル基を除く一価炭化水素基であり、R2は水素原子またはアルケニル基を除く一価炭化水素であり、R3はエポキシ基含有有機基、アルコキシシリルアルキル基および一般式:【化2】(式中、R1はアルケニル基を除く一価炭化水素基であり、R4は二価炭化水素基である。また、nは1〜500の数である。)で表されるジオルガノポリシロキサン残基からなる群から選択される基である。また、aは0または正数であり、bは正数であり、cは正数であり、a/cは0〜4の数であり、b/cは0.05〜4の数であり、かつ(a+b)/cは0.2〜4の数である。}で表され、1分子中にエポキシ基含有有機基と前記ジオルガノポリシロキサン残基とを少なくとも1個づつ有するオルガノポリシロキサン。

IPC (3件)：

C08G 77/38 NUF ,  C08L 83/06 LRY ,  C09J183/06 PMV