特許

J-GLOBAL ID：200903019450608686

窒素含有排水の処理装置

発明者： 佐々木 均 ,  大森 優伯 ,  青野 正伸
出願人/特許権者： 日本精線株式会社
代理人 (1件)： 苗村 正 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-086920
公開番号（公開出願番号）：特開2001-269698
出願日： 2000年03月27日
公開日（公表日）： 2001年10月02日
要約：

【要約】【課題】 金属材料の表面処理、例えばステンレス鋼の酸洗い処理やメッキ処理などによって発生する排水原液中の窒素を効率よく脱窒処理する為の処理装置を提供する。【解決手段】 排水原液中の窒素又は窒素化合物を脱窒素細菌によって窒素ガスに分解する脱窒処理と、前記脱窒素細菌を増殖させる為に添加された栄養剤を分解する曝気処理と、さらに前記脱窒または曝気処理を経た処理液が通気性部材を介して排出するように接続し構成してなる排水処理装置において、前記通気性部材は前記処理液の排水路を細分する細分流路を備えるとともに、少なくとも該流路表面に抗菌性物質を形成したことを特徴とする窒素含有排水の処理装置。

請求項（抜粋）：

排水原液中の窒素又は窒素化合物を脱窒素細菌によって窒素ガスに分解する脱窒処理と、前記脱窒素細菌を増殖させる為に添加された栄養剤を分解する曝気処理と、さらに前記脱窒または曝気処理を経た処理液が通気性部材を介して排出するように接続し構成してなる排水処理装置において、前記通気性部材は前記処理液の排水路を細分する細分流路を備え、少なくとも該細分流路の表面には抗菌性物質を形成したことを特徴とする窒素含有排水の処理装置。

IPC (2件)：

C02F 3/34 101 ,  C02F 3/30 ZAB

FI (2件)：

C02F 3/34 101 B ,  C02F 3/30 ZAB A

Fターム (6件)：

4D040BB24 ,  4D040BB42 ,  4D040BB54 ,  4D040BB82 ,  4D040BB92 ,  4D040BB93