特許

J-GLOBAL ID：200903019463551888

耐光性ポリベンザゾール組成物、その繊維およびフィルム

発明者： 阿部 幸浩 ,  児玉 哲夫 ,  久保田 冬彦
出願人/特許権者： 東洋紡績株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-184715
公開番号（公開出願番号）：特開2001-011311
出願日： 1999年06月30日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
要約：

【要約】【課題】太陽光暴露時の酸化劣化の少ないポリベンザゾールを得ること。【解決手段】ポリベンザゾールに、下記構造式[1]で示されるアントラキノン化合物が1種類以上含有されていることを特徴とする耐光性ポリベンザゾール組成物、その繊維およびフィルム。【化1】(ただし、R1、R2、R4〜R7はそれぞれ独立に、水素原子、アミノ基、ヒドロキシル基、アリルオキシ基、ハロゲン原子を表す。R3は水素原子、アミノ基、置換アミノ基、ヒドロキシル基、アリルオキシ基、ハロゲン原子、アミノフェニル基を表す。R8は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、アリル基、置換アリル基を表す。)

請求項（抜粋）：

ポリベンザゾールに、下記構造式[1]で示されるアントラキノン化合物が1種類以上含有されていることを特徴とする耐光性ポリベンザゾール組成物。【化1】(ただし、R1、R2、R4〜R7はそれぞれ独立に、水素原子、アミノ基、ヒドロキシル基、アリルオキシ基、ハロゲン原子を表す。R3は水素原子、アミノ基、置換アミノ基、ヒドロキシル基、アリルオキシ基、ハロゲン原子、アミノフェニル基を表す。R8は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、アリル基、置換アリル基を表す。)

IPC (7件)：

C08L 79/06 ,  C08G 73/22 ,  C08J 5/18 CEZ ,  C08K 5/18 ,  D01F 6/74 ,  D06M 13/335 ,  D06M101:16

FI (6件)：

C08L 79/06 ,  C08G 73/22 ,  C08J 5/18 CEZ ,  C08K 5/18 ,  D01F 6/74 Z ,  D06M 13/335

Fターム (41件)：

4F071AA60 ,  4F071AC07 ,  4F071AE05 ,  4F071AF57 ,  4F071AG06 ,  4F071AG07 ,  4F071AH19 ,  4F071BB06 ,  4F071BB07 ,  4F071BB08 ,  4F071BC01 ,  4J002CM031 ,  4J002EN096 ,  4J002FD046 ,  4J002GK01 ,  4J043RA52 ,  4J043RA57 ,  4J043YB04 ,  4J043YB13 ,  4J043YB21 ,  4J043YB32 ,  4J043ZA14 ,  4J043ZB04 ,  4J043ZB51 ,  4J043ZB53 ,  4L033AA06 ,  4L033AB01 ,  4L033AC15 ,  4L033BA11 ,  4L033BA57 ,  4L033DA00 ,  4L033DA02 ,  4L035BB02 ,  4L035BB07 ,  4L035BB22 ,  4L035BB91 ,  4L035EE07 ,  4L035FF01 ,  4L035JJ21 ,  4L035MD06 ,  4L035MD07