特許

J-GLOBAL ID：200903019487690730

高純度コロイダルシリカの製造方法

発明者： 佐藤 善美 ,  橋本 晃
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 皿田 秀夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-102209
公開番号（公開出願番号）：特開平7-291614
出願日： 1994年04月15日
公開日（公表日）： 1995年11月07日
要約：

【要約】【目的】 Na、K等のアルカリ金属の含有率が1ppm以下と極めて少なく、かつ低コストで製造でき、また、微粒子等の添加剤をできるだけ安定な状態で溶液中に存在させたり、研磨後の後処理で微粒子添加剤の除去が容易になり得る高純度コロイダルシリカの製造方法を提供する。【構成】 含水珪酸塩を酸と接触させて、含水シリカを生成させる含水シリカ生成工程、前記生成した含水シリカを酸および/または水で洗浄する工程、および前記含水シリカをアミン系アルカリに分散させた液に酸を添加しつつ、コロイダルシリカを生成させる工程を含むように構成する。

請求項（抜粋）：

含水珪酸塩を酸と接触させて、含水シリカを生成させる含水シリカ生成工程、前記生成した含水シリカを酸および/または水で洗浄する工程、および前記含水シリカをアミン系アルカリに分散させた液に酸を添加しつつ、コロイダルシリカを生成させる工程を含むことを特徴とする高純度コロイダルシリカの製造方法。