特許
J-GLOBAL ID:200903019493097480

分析素子の製造方法及び分析素子、並びにそれを用いた試料の分析方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 真田 有
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-167167
公開番号(公開出願番号):特開2002-357537
出願日: 2001年06月01日
公開日(公表日): 2002年12月13日
要約:
【要約】【課題】 表面プラズモン共鳴(SPR)を利用した試料分析のための分析素子の製造方法に関し、エバネッセント波を誘起する光学構造として回折格子の構造制御及び試料と接触する表面の性状制御を容易にする。【解決手段】 型24に回折格子25を形成しておき、この型24の回折格子25が形成された側の面に金属膜23を積層し、さらに金属膜23上に基板22を積層することによって、分析素子21の製造工程における金属膜23表面への回折格子25の形成時の操作から蒸着やスパッタリングによる要素を排除する。
請求項(抜粋):
型に回折格子を形成するステップと、上記型の上記回折格子が形成された側の面に金属膜を積層するステップと、上記金属膜上に基板を積層するステップとを備えたことを特徴とする、分析素子の製造方法。
IPC (2件):
G01N 21/27 ,  G01N 33/543 595
FI (2件):
G01N 21/27 C ,  G01N 33/543 595
Fターム (9件):
2G059BB04 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG03 ,  2G059GG04 ,  2G059HH02 ,  2G059JJ19 ,  2G059KK04

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