特許

J-GLOBAL ID：200903019496507701

合成ガス中の有機汚染物残渣の除去方法

発明者： ギュンター・ハー・キッス
出願人/特許権者： テルモゼレクト・アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-061158
公開番号（公開出願番号）：特開平8-259962
出願日： 1995年03月20日
公開日（公表日）： 1996年10月08日
要約：

【要約】【目的】 合成ガス中の有機汚染物残渣の除去方法を提供すること。【構成】 ゆるく堆積されたガス化床が形成された高温反応炉中に少なくとも予備熱分解した、圧縮形の炭素含有塵芥を供給し、同床の下で酸素添加によって燃焼させることから成る、酸素の添加による塵芥ガス化中に発生する合成ガス中の有機汚染物残渣の除去方法を述べる。生成した合成ガスを、充分な滞留時間後に、高温反応炉の頂部から取り出し、滞留帯中に補充酸素を、合成ガスの生ずる可能な部分燃焼がガス化床上のその温度を約1,000°Cに一定に維持するように、温度制御された部分量で注入する。酸素注入が頂部において完全に均一なガス混合が保証されるように行われる。この目的のために、幾つかの酸素ジェットを高温反応炉の頂部に配置し、頂部に軸方向及び/又は半径方向から傾斜させる。

請求項（抜粋）：

ゆるく堆積されたガス化床が形成された高温反応炉中に少なくとも予備熱分解した、圧縮形の炭素含有塵芥を供給し、同床の下で酸素添加によってガス化を受けさせ、充分な滞留時間後に、生成した合成ガスを高温反応炉の頂部から取り出すことから成る、酸素の添加による塵芥ガス化中に発生する合成ガス中の有機汚染物残渣の除去方法であって、反応炉の頂部に滞留帯を構成する高温反応炉の遊離ガス帯中に補充酸素を、合成ガスの生ずる可能な部分燃焼がガス化床上のその温度を約1,000°Cに一定に維持するように、それ自体公知の方法で注入すること、及び頂部において完全に均一なガス混合が保証されるように酸素注入が行われることを特徴とする方法。

IPC (5件)：

C10J 3/00 ZAB ,  C10J 3/00 ,  B01D 53/72 ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00

FI (5件)：

C10J 3/00 ZAB A ,  C10J 3/00 ZAB F ,  B01D 53/34 120 D ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 302 C