特許
J-GLOBAL ID：200903019502151574
紫外線照射後処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-086408
公開番号（公開出願番号）：特開平7-294705
出願日： 1994年04月25日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：
【要約】【目的】 低温プロセスで低光吸収膜が得られる紫外線照射後処理方法を提供する。【構成】 蒸着、CVD又はスパッタによって形成された主に波長が400nm以下で使用される光学膜において、成膜後、波長が400nm以下190nm以上の紫外光を照射することを特徴とする紫外線照射後処理方法。
請求項（抜粋）：
蒸着、CVD又は、スパッタによって形成された、主に波長が400nm以下で使用される光学膜において、成膜後、波長が400nm以下190nm以上の紫外光を照射することを特徴とする紫外線照射後処理方法。
IPC (4件)：
G02B 1/11
, B29C 71/04
, C23C 14/58
, G02B 5/28
